ウェーハの乾燥におけるボトルネックを解消する：赤外線と熱風の比較
半導体製造現場で働いたことがある人なら、洗浄工程が通常、作業の遅れの原因になることを知っているでしょう。ウェーハを乾燥させるのは本当に大変な作業です。
依然として多くの工場では熱風を利用しています。しかし問題は、わずかな水分を取り除くために、部屋中の空気を加熱しようとしている点です。大量の空気を動かし、循環を待つだけで、時間が無駄になります。本当に非効率的です。
遅延が最大の問題です。
熱風は対流に依存しているため、「熱が伝わるのを待つ」ということになります。大量生産の場合、この遅延は単なる無駄なコストに過ぎません。
一方、赤外線ランプは異なります。空気を使わず、直接ウェーハ上の水分子にエネルギーを照射します。迅速で効率的です。
もちろん、適当なランプを使ってはいけません。洗浄ステーションでは、飛び散る水滴や高湿度に対処する必要があります。普通のランプを使うと、数週間で端子が腐食してしまいます。そのため、湿気を遮断できる防水型の赤外線ランプが必要です。
でも、これは魔法ではありません。
赤外線は瞬時に目標に到達しますが、そのためには距離や出力を正確に調整する必要があります。高強度の赤外線を使うと、ウェーハに負担がかかる可能性があります。単に送風機をランプに置き換えるだけでは不十分です。
実際の現場での活用
多くの企業がラインの更新時に赤外線を採用しています。それには理由があります。スペースを大幅に節約できるからです。大型の送風機や複雑なダクトを不要にできます。
ランプを接続し、タイマーを設定すれば、乾燥時間が短縮されます。ただし、ランプから発生する余分な熱に対応できる冷却システムが必要です。そうでないと、工場内がサウナのようになってしまいます。