放射熱を利用してMEMSウェーハを適切に乾燥させる方法 MEMSセンサーのウェーハを乾燥させるのは、かなり微妙な作業です。水分を取り除くためには十分な熱が必要ですが、過度に熱を加えてしまうと、微細で繊細な微細構造が壊れてしまいます。 そのため、私たちは金メッキされた反射材を使用します。聞こえは良い...

半導体製造工場の改善：なぜ赤外線加熱が効果的か 半導体製造工場について正直に言えば、私たちは熱管理に非常にこだわっています。わずかなミスで、高価な廃棄物が大量に発生してしまうからです。長年にわたり、私たちは従来の抵抗加熱器を使ってきました。確かに機能はしますが、使い勝手が悪いのです。 赤外線ランプ...

ウェーハが加熱されるのを待つ時間の無駄をやめましょう。 もし今でも熱風を使ってウェーハの処理を行っているなら、それはまるで時間と戦っているようなものです。熱風の場合、チャンバ全体やその中の空気を加熱するのに時間がかかります。ウェーハが何かが起きていることに気づく前に、すでに多くの時間が失われてしま...

ファブの現場では、歩留まりは数度やナノメーター単位で決まります。わずか半度の温度変動だけでも、配線の幅に影響を与える可能性があります。また、対流オーブンの空気流によって、粒子が新しいフォトレジスト層上に付着してしまうこともあります。重要なのは、ウェーハをどのように乾燥させるかだけでなく、そのプロセ...

マイクロLEDウェーハが洗浄から取り出された瞬間から、時間との戦いが始まります。残留する水分や熱影響によって、製品の品質が急速に低下してしまいます。フォトレジストのソフトベイクおよびハードベイクでは、温度を±0.1℃以内に保つ必要があります。そうでなければ、線幅の制御や接着性に問題が生じてしまいま...

再配線工程において、温度は単なるパラメータではなく、実際にはプロセスそのものです。フォトレジストのソフトベイクやエポキシの硬化過程で5℃の温度変動があるだけで、バンプの高さが変わり、オーバーレイに影響を与え、結果として歩留まりが悪くなります。このファンアウト型ウェーハレベルパッケージ用ヒーターは、...

製造現場では、ラインは何も待つことなく動き続けます。ソフトベイクやハードベイクの際に温度がわずかに変動してしまうだけで、ウェーハの寸法が不安定になってしまいます。その結果、ウェーハは廃棄され、リソグラフィーの工程が止まってしまいます。ですから、一日中ほとんど動かないような装置ではなく、常に稼働でき...

熱制御が不安定になると、歩留まりが低下します。きれいに洗浄しても、微小な水滴が残ってしまい、これらの水滴は欠陥を引き起こす原因となります。フォトレジストを焼成する際、ディスプレイ上では目標温度が表示されますが、バッチ全体を通して見ると、線幅や汚れという形でその影響が現れます。解決策は単により多くの...

ファブフロア上では、300mmウェーハがフォトレジストプロファイルを固定するためのソフトベイクを待っている。ホットスポットが一か所、コールドゾーンが一か所あれば、ライン幅制御は失われる。ラインは停止する。この事態を未然に防ぐために、我々はこの光学式ウェーハ処理用ヒーターを開発した。 技術的に本当に...