웨이퍼 건조를 위한 적외선 방식과 대류 방식 비교

제조 현장에서는 수율이 몇 도나 나노미터 단위로 결정됩니다. 반도체 웨이퍼를 가열할 때 온도가 0.5도만 변해도 웨이퍼의 두께에 변화가 생길 수 있으며, 대류식 오븐의 공기 흐름으로 인해 입자들이 새롭게 코팅된 포토레지스트 필름 위에 달라붙을 수도 있습니다. 중요한...