เทอร์มิสเตอร์แบบเซรามิกสำหรับการปล่อยรังสีอินฟราเรด: ช่วยลดเวลาในการประมวลผลชิปเซมิคอนดักเตอร์...

ในกระบวนการผลิตชิป แม้ว่าอุณหภูมิการอบจะเปลี่ยนแปลงเพียง 0.1°C เท่านั้น ก็อาจส่งผลให้ขนาดของชิปเปลี่ยนไปถึงระดับนาโนเมตรได้...