Di bilik proses pembuatan semikonduktor, perubahan suhu sebanyak 0.1°C sahaja sudah cukup untuk mengubah dimensi penting bahan semikonduktor tersebut sebanyak beberapa nanometer. Perubahan ini akan menyebabkan wafer yang dihasilkan tidak berkualiti, margin penggunaan bahan photoresist berkurangan, dan tekanan untuk mendapatkan hasil yang memuaskan tetap ada.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami telah mencipta alat pemanas inframerah linear yang berfungsi berdasarkan prinsip termal semikonduktor. Alat ini menghantar tenaga inframerah secara langsung ke wafer, sehingga suhu di kawasan aktif wafer kekal stabil dalam lingkungan ±0.1°C. Ini memastikan proses pemanggangan berjalan dengan lancar, dari satu sesi ke sesi yang lain.
Alat ini boleh beroperasi dalam lingkungan Kelas 1–100, tanpa penghasilan zarah-zarah berbahaya. Reka bentuknya juga memastikan kontaminasi tidak masuk ke kawasan proses. Pengeluaran tenaga tetap stabil walaupun digunakan secara berterusan. Data lapangan menunjukkan bahawa alat ini boleh beroperasi selama lebih dari 5,000 jam dengan prestasi yang stabil.
Reka bentuk alat ini mematuhi standard antarabangsa untuk peralatan semikonduktor, dan ia merupakan pengganti yang sesuai. Integrasi mekanikal dan elektrikalnya sangat mudah, tanpa perlu membuat anggaran yang rumit.
Mengapa ia berkesan dalam proses litografi:
Tindak balas bahan photoresist bergantung pada sejarah suhu, bukan hanya pada suhu maksimum. Alat pemanas linear ini memanaskan dan menyejukkan wafer dengan cepat, serta memberikan profil suhu yang konsisten setiap kali digunakan.
Ini bermakna kurangnya keperluan untuk memproses semula wafer, kawalan dimensi yang lebih baik, dan masa proses yang lebih boleh diramalkan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana tiada beban haba yang berlebihan. Sistem ini direka untuk beroperasi 24/7 dengan jadwal penyelenggaraan yang dapat diramalkan. Hasilnya, jumlah zarah berbahaya di permukaan wafer tetap rendah.
Apa yang perlu diketahui:
Pemasangan alat ini memerlukan penyesuaian optik yang tepat, serta sumber kuasa yang berkualiti tinggi yang sesuai dengan voltan dan arus yang diperlukan oleh alat tersebut. Jika alat pemanas ini terlalu dekat dengan modul lain, akan berlaku gangguan termal. Kami menyediakan panduan untuk memastikan keseragaman suhu.
Jika proses pemanggangan dan penyejukan dilakukan secara bergilir-gilir, pastikan sistem penyejuk mampu mengikuti rentak tersebut. Alat pemanas akan memberikan haba yang diperlukan, tetapi keseluruhan proses masih bergantung pada sistem termal di sekelilingnya.