Ngay từ lúc tấm wafer Micro LED được lấy ra khỏi quá trình làm sạch, thời gian bắt đầu tính toán ngay lập tức. Hơi ẩm còn sót lại và sự chênh lệch nhiệt độ sẽ ảnh hưởng tiêu cực đến chất lượng sản phẩm. Quá trình nung phim hiển vi cần được thực hiện trong khoảng nhiệt độ ±0,1°C; nếu không, chất lượng đường kính của các đường trên wafer sẽ bị ảnh hưởng. Thiết bị sấy phải đảm bảo độ chính xác cao, không tạo ra các hạt bụi, đồng thời giữ ổn định nhiệt độ.
Nhiệm vụ của thiết bị này rất đơn giản: duy trì nhiệt độ ổn định, phục hồi nhanh chóng sau mỗi chu kỳ sấy, và đảm bảo môi trường sạch sẽ. Chúng tôi thiết kế thiết bị sấy dựa trên các nguyên lý sử dụng tia hồng ngoại tần số cao trong buồng cách ly bằng thạch anh, nhằm đưa wafer lên nhiệt độ mong muốn một cách nhanh chóng, sau đó giữ ổn định nhiệt độ đó. Độ đồng đều nhiệt độ trên toàn bộ diện tích wafer chỉ dao động trong khoảng ±0,1°C. Algoritma điều khiển giúp kiểm soát chặt chẽ nhiệt độ.
Thiết bị này được thiết kế để hoạt động trong môi trường phòng sạch loại 1–100. Bên trong thiết bị được chế tạo một cách tỉ mỉ, giúp loại bỏ hoàn toàn các hạt bụi. Chu kỳ nung phim hiển vi luôn ổn định từ lô này sang lô khác, nhờ vào algoritma điều khiển có khả năng bù trừ các yếu tố ảnh hưởng đến nhiệt độ. Thiết bị có thể hoạt động liên tục 24 giờ mà không gặp sự cố – chúng tôi cam kết không có thời gian ngừng hoạt động không mong muốn trong quá trình sản xuất.
Việc lắp đặt thiết bị này cũng cần được chú ý kỹ lưỡng: thiết bị cần dây điện 240 V riêng biệt và môi trường khô sạch để duy trì chất lượng khí sấy. Việc tích hợp thiết bị với hệ thống xử lý phải được 계획 kỹ lưỡng từ đầu. Chúng tôi cung cấp các bản vẽ kỹ thuật và bảng kết nối để đảm bảo thiết bị được lắp đặt đúng cách và hoạt động hiệu quả.