Hãy ngừng lãng phí thời gian chờ đợi các tấm wafer được làm nóng đi. Nếu bạn vẫn sử dụng phương pháp sưởi bằng không khí nóng để xử lý wafer, thì bạn đang chiến đấu với thời gian một cách vô ích. Bởi vì không khí nóng di chuyển rất chậm; bạn phải mất nhiều thời gian để làm nóng toàn bộ buồng xử lý cũng như không khí bên trong trước khi wafer có thể cảm nhận được sự thay đổi nhiệt độ. Điều này khiến bạn mất rất nhiều thời gian.
Việc chuyển sang sử dụng công nghệ hồng ngoại sẽ thay đổi hoàn toàn tình hình. Thay vì chờ đợi không khí nóng lên, công nghệ hồng ngoại truyền năng lượng trực tiếp vào bề mặt wafer. Sự khác biệt rất lớn: trong khi phương pháp sưởi bằng không khí nóng có thể mất vài phút mới đạt được nhiệt độ mong muốn, thì công nghệ hồng ngoại chỉ mất vài giây thôi.
Khi xử lý số lượng lớn wafer, những giây được tiết kiệm này không phải là điều nhỏ nhặt. Chúng giúp bạn tăng hiệu suất xử lý lên hàng giờ mỗi ca làm việc.
Ngoài ra, hệ thống sưởi bằng không khí nóng rất cồng kềnh. Bạn cần sử dụng những máy thổi khí lớn, hệ thống ống dẫn khí, và những chiếc hộp cách nhiệt khổng lồ để ngăn nhiệt thoát ra ngoài. Trong khi đó, các bóng đèn hồng ngoại lại rất nhỏ gọn. Bạn có thể đặt chúng ngay gần bề mặt wafer, tạo ra một vùng nhiệt được kiểm soát chặt chẽ, giúp việc làm nóng và làm nguội diễn ra nhanh chóng.
Tuy nhiên, có một điểm cần lưu ý: bạn không thể đơn giản thay thế bộ sưởi cũ bằng bộ sưởi hồng ngoại rồi coi như xong. Công nghệ hồng ngoại yêu cầu sự cân bằng chính xác; nếu bộ sưởi không được cân bằng hoặc độ dày của wafer không phù hợp, bạn sẽ gặp phải tình trạng nhiệt độ không đồng đều. Đây không phải là giải pháp “cắm vào và dùng ngay”. Bạn cần điều chỉnh các bộ điều khiển PID để kiểm soát tốc độ làm nóng, nếu không bạn sẽ làm wafer bị hư hại.
Dù vậy, đối với hầu hết các xưởng sản xuất, việc chọn công nghệ hồng ngoại là quyết định hợp lý. Mục tiêu cuối cùng vẫn là đưa wafer đến nhiệt độ mong muốn và lấy chúng ra khỏi xưởng càng nhanh càng tốt.