Berhenti membazir masa menunggu wafer dipanaskan
Jika anda masih menggunakan kaedah pemanasan udara panas untuk memproses wafer, sebenarnya anda sedang berjuang melawan masa yang tidak menguntungkan. Udara panas memerlukan masa yang lama untuk memanaskan seluruh ruang dan udara di dalamnya sebelum wafer dapat merasai perubahan suhu tersebut. Ini merupakan kelemahan besar yang akan merosakkan produktiviti anda.
Dengan beralih kepada penggunaan sinar inframerah (IR), segalanya akan berubah. Daripada menunggu udara panas, sinar IR menghantar tenaga secara langsung ke permukaan wafer. Perbezaannya sangat ketara. Sementara sistem udara panas memerlukan beberapa minit untuk mencapai suhu yang diinginkan, sistem IR pula dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam masa beberapa saat sahaja.
Ketika anda perlu memproses wafer dalam kuantiti yang banyak, masa yang dijimatkan ini bukanlah sesuatu yang kecil. Ia boleh menjadikan proses pemprosesan lebih cepat, iaitu berjam-jam setiap syif.
Selain itu, lihat saja komponen yang digunakan. Sistem udara panas memerlukan alat-alat yang besar seperti peniup udara, saluran udara, dan kotak isolasi yang besar untuk mengelakkan haba daripada bocor keluar. Sebaliknya, lampu IR sangat kecil. Anda boleh meletakkannya betul-betul dekat dengan wafer, sehingga membentuk zon pemanasan yang terkawal, yang membolehkan suhu dinaikkan atau diturunkan dengan cepat.
Namun, ada satu masalah. Anda tidak boleh sekadar menukar pemanas dan anggap semuanya selesai. Sinar IR sangat kuat. Jika susunan lampu IR tidak seimbang atau ketebalan wafer tidak tepat, ia akan menyebabkan adanya kawasan yang terlalu panas. Ini bukanlah sistem yang mudah digunakan. Anda perlu menyesuaikan pengawal PID agar dapat mengawal kelajuan pemanasan tersebut. Jika tidak, suhu wafer boleh menjadi terlalu tinggi dan merosakkan wafer tersebut.
Namun, bagi kebanyakan kilang, pertukaran ini merupakan pilihan yang bijak. Yang penting adalah memastikan wafer mencapai suhu yang diinginkan secepat mungkin.