製造現場では、ラインは何も待つことなく動き続けます。ソフトベイクやハードベイクの際に温度がわずかに変動してしまうだけで、ウェーハの寸法が不安定になってしまいます。その結果、ウェーハは廃棄され、リソグラフィーの工程が止まってしまいます。ですから、一日中ほとんど動かないような装置ではなく、常に稼働できるように設計された加熱プラットフォームが必要です。
技術的に重要な点 ウェーハ全体の温度を±0.1℃以内に保つことが重要です。そうすれば、熱管理が容易になり、CD制御も正確に行えます。短波および中波の赤外線を利用し、石英や炭素繊維強化モジュールを組み合わせることで、迅速かつ遅延なく温度を上げることができます。これにより、90℃から150℃までの範囲で、サイクルごとに安定した加熱プロファイルが得られます。
また、この装置は粒子発生が一切ないため、クリーンルームのクラス1～100で問題なく使用できます。7×24時間の連続運転でも、計画外の停止は一切ありません。MTBFは30,000時間以上です。ループ制御やレシピの保存、温度ログの記録により、再現性も保たれます。
なぜリソグラフィーに適しているのか フォトレジスト処理の精度は非常に高く、それは周知の事実です。このシステムは設定値を狭い範囲内に保つため、ソフトベイク時には溶剤が均一に除去され、ハードベイク時には過度な加熱や不足な加熱が防がれます。これにより、再作業が減少し、歩留まりが向上し、安定した性能が得られます。
また、パルス制御や熱回収によってエネルギー消費を削減できるため、生産効率を下げることなく運営コストを抑えることができます。
実用上の注意点 設置には専用の電力調整装置が必要です。これにより、電力供給の不安定さを抑え、電力系統の問題時でも温度の安定性が保たれます。モジュールの交換は工具なしで行えますが、既存のインターフェースと完全に統合するには、レシピを調整し、データの正確性を確認するための短時間のテストが必要です。
2時間程度の試運転後、24時間のバーンインテストを行い、温度の変動がないことを確認しましょう。