ファブフロア上では、300mmウェーハがフォトレジストプロファイルを固定するためのソフトベイクを待っている。ホットスポットが一か所、コールドゾーンが一か所あれば、ライン幅制御は失われる。ラインは停止する。この事態を未然に防ぐために、我々はこの光学式ウェーハ処理用ヒーターを開発した。
技術的に本当に重要なこと
本装置は短波長赤外線（SWIR）クォーツエミッターを使用し、エネルギーをフォトレジストと基板に直接、迅速かつ効率的に投入する。アクティブエリア全体で±0.1℃以内のウェーハレベルの均一性が実現されるため、重要なベイク工程が温度管理範囲内に収まる。クリーンルーム対応はClass 1からClass 100まで可能で、運転中のパーティクル発生はゼロである。温度の再現性はバッチ間で±0.2℃を維持し、ヒーターは24時間365日、計画外の停止なく稼働し続ける。
我々の作業に適している理由
このヒーターは、我々が重視する4つの熱処理工程に対応している：ウェーハ乾燥、フォトレジストのソフトベイクおよびハードベイク、パッケージングのアンダーフィルおよびエンキャプシュレートの硬化、そして後処理の乾燥である。
リソグラフィ工程では、この厳密な均一性がCD（クリティカルディメンション）およびプロファイルの目標値を規格内に維持し、不良品と再作業の削減に繋がる。パッケージング工程では、急速な昇温により硬化ウィンドウが短縮され、オーバーシュートも抑制されるため、生産性が向上する。また、SWIRはチャンバーを加熱するのではなく直接加熱するため、エネルギー消費が低減される。
必要な詳細情報
設置は、ツールの機械的エンベロープおよび冷却ループの適合がポイントとなる。インターフェース図面およびコネクターリストを提供し、統合を容易にしている。
エミッターの寿命は10,000時間と評価されている。それ以降は出力のドリフトにより均一性に影響を及ぼす可能性があるため、交換計画を立てておく必要がある。メンテナンスのタイミングは事前に計画し、現場で問題が発生してから対応するのは避けるべきである。