İşlem sırasında, termal kontrolde meydana gelen sapmalar nedeniyle verimlilik düşer. Temizleme işlemleri sonucunda mikro damlacıklar kalır ve bu küçük damlacıklar aslında kusurların oluşması için bir fırsat oluşturur. Foto dirençlerin kurutulması sırasında ekran üzerinde hedef sıcaklık gösterilebilir; ancak tüm parti için bu fark, çizgi genişliği ve yüzeydeki kirler şeklinde kendini gösterir. Çözüm, daha fazla ısı uygulamak değil; kontrol altındaki ısı uygulamaktır.
Arka planda önemli olan şeyler
NIR tipi wafer kurutucularını, silikonun emilim özelliklerine uygun olarak ayarlanmış kısa dalga boyundaki yakın kızılötesi ışık kaynakları kullanarak ürettik. Böylece enerji, yüzeyi pişirmeden içeriye nüfuz edebiliyor. Tepki zamanı saniyenin altındadır ve wafer üzerindeki sıcaklık uyumluluğu ±0,1°C civarındadır. Bu kurutucular, sınıf 1–100 temiz odalarla uyumludur; düşük gaz salınımı yapan malzemeler kullanılır ve parçacık oluşumunu sıfıra indiren bir akış sistemi vardır. Kalibre edilmiş sensörler ve kapalı döngü kontrolü sayesinde tekrarlanabilirlik sağlanır; böylece her işlem aynı termal koşullar altında gerçekleşir.
Gerçek işlemlerde neden kullanılır?
Litografi işlemlerinde NIR kurutucular, foto direncin ihtiyaç duyduğu sıcaklık değerlerini sağlar ve böylece TMU değerlerini azaltırken CD uyumluluğunu korur. Temizleme ve kurutma işlemlerinde ise yüzeydeki son nem izlerini iz bırakmadan ortadan kaldırır; bu da daha az yeniden işlem yapılmasını ve atık oluşmasını engeller. Paketleme işlemlerinde ise hızlı ve stabil kuruma sağlar, böylece işlem süresi kısalır. Enerji tüketimi azalır çünkü ısı talep üzerine sağlanır, büyük bir ısı tabanında saklanmaz. Güvenilirliği sahada kanıtlanmıştır: Cihazlar 7/24 çalışır ve beklenmedik duruşlar olmaz; bakım aralıkları binlerce saatlere kadar uzayabilir.
Pratik detaylar
NIR kurutucular, mevcut sistemlere ve bağımsız cihazlara kolayca entegre edilebilir; ancak optik yolun temiz ve hizalanmış olması gerekmektedir. Işık kaynağının etrafında yeterli temizlik alanı bulundurulmalı ve kullanılan reçete, ışık kaynağının spektrumuyla uyumlu olmalıdır. Farklı polimerler NIR bölgesinde farklı şekilde emilim gösterir. Farklı foto direnç türleri kullanıldığında küçük ayarlamalar gerekebilir; yeni ayar değerleri mutlaka kaydedilmelidir. Hizalanma sağlandığında işlem kontrol altında kalır.