Berhentilah membuang waktu menunggu wafer untuk mencapai suhu yang diinginkan. Jika Anda masih menggunakan sistem sirkulasi udara panas untuk memproses wafer, maka Anda sebenarnya sedang berjuang melawan waktu. Udara panas memiliki kecepatan yang lambat; Anda perlu memanaskan seluruh ruang serta udara di dalamnya terlebih dahulu sebelum wafer menyadari adanya perubahan suhu. Hal ini tentu saja akan membuang-buang waktu Anda.
Dengan beralih ke sistem inframerah (IR), segalanya akan berubah. Alih-alih menunggu udara menjadi panas, sistem IR mengirimkan energi secara langsung ke permukaan wafer. Perbedaannya sangat signifikan. Sementara sistem udara panas membutuhkan beberapa menit untuk mencapai suhu yang diinginkan, sistem IR hanya membutuhkan beberapa detik saja.
Ketika Anda melakukan proses pengolahan dalam jumlah besar, waktu yang dihemat tersebut bukanlah hal yang sepele. Waktu yang dihemat tersebut dapat dijadikan jam kerja tambahan setiap shiftnya.
Selain itu, lihat saja peralatan yang digunakan. Sistem udara panas membutuhkan alat-alat yang besar, seperti blower dan kotak isolator, agar panas tidak bocor keluar. Sebaliknya, lampu IR ukurannya jauh lebih kecil. Lampu IR dapat diletakkan tepat di dekat wafer, sehingga menciptakan zona panas yang terkendali, sehingga proses pemanasan dan pendinginan dapat dilakukan dengan cepat.
Namun, ada satu hal yang perlu diperhatikan: Anda tidak bisa sekadar mengganti pemanas lalu selesai. Sistem IR membutuhkan penyetelan yang tepat agar berfungsi dengan baik. Jika penyetelan PID-nya tidak tepat, suhu wafer bisa melebihi batas yang diinginkan, sehingga substrat bisa rusak.
Meski begitu, bagi kebanyakan pabrik, manfaatnya jelas lebih besar daripada risikonya. Yang penting adalah membuat wafer mencapai suhu yang diinginkan secepat mungkin.