Di lantai produksi, sebuah wafer 300mm diletakkan, menunggu soft bake untuk mengunci profil photoresist. Satu titik panas, satu zona dingin, dan kontrol lebar garis Anda hilang. Produksi berhenti. Kami merancang pemanas proses wafer optik ini untuk mencegah hal tersebut terjadi sejak awal.
Apa yang sebenarnya penting, secara teknis Unit ini mengandalkan emitter kuarsa inframerah gelombang pendek (SWIR), yang langsung mengalirkan energi ke photoresist dan substrat—cepat, langsung, dan tanpa komplikasi. Anda mendapatkan uniformitas tingkat wafer yang dijaga dalam batas ±0,1°C di seluruh area aktif, sehingga langkah bake yang krusial tetap berada dalam anggaran termal. Alat ini kompatibel dengan ruang bersih dari Kelas 1 hingga Kelas 100, dan tidak menghasilkan partikel saat beroperasi. Pengulangan suhu stabil pada ±0,2°C dari batch ke batch, dan pemanas ini terus beroperasi 24/7 tanpa downtime yang tidak direncanakan.
Mengapa alat ini sesuai dengan pekerjaan yang kami lakukan
Pemanas ini memenuhi empat titik termal utama yang menjadi fokus kami: pengeringan wafer, soft bake dan hard bake photoresist, curing underfill dan encapsulate pada packaging, serta pengeringan pasca-pembersihan.
Dalam litografi, uniformitas ketat ini menjaga target CD dan profil tetap sesuai spesifikasi, yang berarti mengurangi produk cacat dan proses ulang. Dalam packaging, peningkatan kecepatan pemanasan memperpendek waktu curing tanpa overshoot, sehingga throughput meningkat. Dan karena SWIR memanaskan secara langsung tanpa memanaskan ruang, penggunaan energi berkurang.
Berikut detail teknis yang Anda butuhkan
Instalasi hanya perlu menyesuaikan dengan dimensi mekanik alat dan jalur pendingin. Kami menyediakan gambar interface dan daftar konektor untuk memudahkan integrasi.
Masa pakai emitter diperkirakan sampai 10.000 jam. Setelah itu, drift output dapat mulai memengaruhi uniformitas kecuali Anda merencanakan penggantian. Jadi, rencanakan waktu pemeliharaan sebelumnya—jangan menunggu masalah muncul di lantai produksi.