Sấy Khô on Reliable IR Heating Elements

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Tue, 28 Jul 2026 05:38:32 +0800

Làm khô các wafer MEMS bằng nhiệt tỏa ra từ bề mặt phản chiếu
Việc làm khô các wafer cảm biến MEMS đòi hỏi sự cân bằng tuyệt đối. Bạn cần có đủ nhiệt lượng để loại bỏ hơi ẩm, nhưng nếu dùng quá nhiều nhiệt, các cấu trúc vi mô mỏng manh trên wafer sẽ bị hư hại.

Đó là lý do tại sao chúng ta sử dụng các bộ phản chiếu được phủ bằng vàng. Nghe có vẻ phức tạp, nhưng mục đích của nó rất đơn giản: đảm bảo rằng nhiệt tử ngoại thực sự chiếu trực tiếp lên wafer, thay vì chỉ làm nóng phần bên trong máy.

Kiểm toán năng lượng cho quy trình sấy trong nhà máy

Mon, 13 Jul 2026 18:40:17 +0800

Ngăn chặn bụi bẩn trong quy trình sấy sản phẩm
Nếu bạn đang vận hành phòng sạch loại 100, thì bạn chắc hẳn đã biết rõ tình hình: chỉ cần một hạt bụi nhỏ hay một chút khí thải cũng có thể làm hỏng toàn bộ lô sản phẩm của bạn. Hầu hết các linh kiện sưởi thông thường đều không phù hợp để sử dụng trong môi trường này. Chúng dễ bị nứt vỡ, và các chất bay hơi từ chúng có thể gây ô nhiễm bề mặt sản phẩm.

Máy sấy quần áo

Tue, 30 Jun 2026 17:35:27 +0800

Quần áo ướt treo trong phòng không những mất nhiều thời gian để khô mà còn làm giảm sự thoải mái khi sống trong căn phòng đó. Độ ẩm cao còn gây ra mùi ẩm mốc và khiến không khí trở nên ngột ngạt. Máy sấy quần áo bằng tia hồng ngoại giúp giải quyết vấn đề này bằng cách mang lại nguồn nhiệt tức thời, giúp quần áo khô nhanh hơn và duy trì sự thoải mái trong phòng.

Sử dụng bức xạ hồng ngoại so với phương pháp đối lưu để sấy wafer

Thu, 25 Jun 2026 05:19:32 +0800

Trong quy trình sản xuất, chất lượng của các tấm wafer được quyết định bởi những yếu tố liên quan đến độ chính xác về nhiệt độ và kích thước. Ngay cả sự thay đổi nhiệt độ chỉ 0,5 độ C cũng có thể gây ra sự sai lệch về kích thước của các đường nét trên tấm wafer. Dòng khí trong lò sấy kiểu đối lưu có thể làm cho các hạt bụi bay vào lớp phim bảo vệ trên bề mặt wafer. Vấn đề quan trọng không chỉ là làm thế nào để làm khô wafer, mà còn là làm thế nào để thực hiện việc này mà không gây thêm sự biến động trong quy trình sản xuất.

Máy sấy wafer Micro LED

Tue, 23 Jun 2026 01:16:45 +0800

Ngay từ lúc tấm wafer Micro LED được lấy ra khỏi quá trình làm sạch, thời gian bắt đầu tính toán ngay lập tức. Hơi ẩm còn sót lại và sự chênh lệch nhiệt độ sẽ ảnh hưởng tiêu cực đến chất lượng sản phẩm. Quá trình nung phim hiển vi cần được thực hiện trong khoảng nhiệt độ ±0,1°C; nếu không, chất lượng đường kính của các đường trên wafer sẽ bị ảnh hưởng. Thiết bị sấy phải đảm bảo độ chính xác cao, không tạo ra các hạt bụi, đồng thời giữ ổn định nhiệt độ.