Лампа швидкої термічної обробки (RTP)

Mon, 08 Jun 2026 05:32:30 +0800

На виробничому майданчику ви добре знаєте, як це буває: зміщення температури софт-бейку на півградуса впливає на профіль фото_resисту, і це зміщення веде до відхилення критичного розміру. Термічний бюджет дуже суворий, і маржі для помилки немає.
Що важливо під капотом
Ми використовуємо лампи RTP з короткохвильовим галогеновим нагріванням через високочистий кварц, тому енергія подається швидко і спрямовано. Система підтримує термічну однорідність на рівні пластини в межах ±0,1°C протягом всього процесу — від софт-бейку фото_resисту до хард-бейку. Повторюваність є з пострілка на постріл, а замкнена система керування утримує встановлене значення стабільним під навантаженням.
Пристрій призначений для чистих приміщень класу 1–100, має нульове утворення частинок і низьке виділення газів. Ці установки працюють 24/7, і ми маємо понад 5 000 годин роботи з падінням виходу менше ніж на 5%.
Чому це важливо у вашому середовищі
У літографії стабільна температура випікання утримує критичні розміри у межах допусків та контролює шорсткість краю лінії. Висока однорідність зменшує кількість відмов на краях пластини та покращує загальний вихід продукції. Швидкі темпи нагріву скорочують час циклу без додаткового стресу на шарі, а ефективність знижує експлуатаційні витрати.
Результатом є менша кількість відхилень, менший обсяг переробок і стабільний вихід. У сфері пакування та ж термічна стабільність забезпечує надійне отвердіння та міцність з’єднань, що дозволяє лінії працювати без зупинок.
На що слід звернути увагу при налаштуванні
Лампа має високу інтенсивність, тому інтерфейс камери повинен відповідати їй з термічної точки зору. Ми надаємо креслення інтерфейсу і рекомендуємо виділене живлення з стабільністю напруги в межах ±1%. Очікуйте короткий період прогріву до досягнення стабільного стану — плануйте рецепти з урахуванням цього розгону. Правильне налаштування забезпечить стабільну роботу з мінімальними незапланованими простоями.

Оптичний нагрівач для обробки пластин

Wed, 03 Jun 2026 10:20:06 +0800

Out on the fab floor, a 300mm wafer sits, waiting for that soft bake to lock in the photoresist profile. One hot spot, one cold zone, and your linewidth control is gone. The line stops. We built this optical wafer processing heater to keep that from happening in the first place. What actually matters, technically The unit leans on short-wave infrared (SWIR) quartz emitters, dumping energy straight into the photoresist and substrate—fast, direct, and without fuss. You get wafer-level uniformity held within ±0.1°C across the active area, so those critical bake steps stay inside the thermal budget. It’s cleanroom-compatible from Class 1 to Class 100, and it generates zero particles while it runs. Temperature repeatability holds at ±0.2°C from batch to batch, and the heater keeps turning 24/7 with zero unplanned downtime. Why it fits the work we do This heater hits the four thermal pivots we live by: wafer drying, photoresist soft bake and hard bake, packaging underfill and encapsulate curing, and post-clean drying. In lithography, that tight uniformity keeps CD and profile targets on spec, which means less scrap and fewer reworks. In packaging, the fast ramp shortens the cure window without overshoot, so throughput improves. And because SWIR heats directly instead of heating a chamber, energy use drops. Here are the details you need Installation comes down to matching the tool’s mechanical envelope and coolant loops. We provide the interface drawings and connector list to make integration straightforward. Emitter life is rated to 10,000 hours. After that, output drift can start to impact uniformity unless you plan replacements. So plan the maintenance window ahead of time—don’t wait for it to show up on the floor.

Processing on Reliable IR Heating Elements

Лампа швидкої термічної обробки (RTP)

Оптичний нагрівач для обробки пластин