หลอดไฟสำหรับการประมวลผลความร้อนอย่างรวดเร็ว (RTP)

Mon, 08 Jun 2026 05:32:30 +0800

บนพื้นที่โรงงาน คุณรู้ว่ามันเป็นอย่างไร: การเปลี่ยนอุณหภูมิในการอบซอฟต์เบคเพียงครึ่งองศา สามารถเปลี่ยนแปลงรูปโปรไฟล์ของโฟโตริสต์ และการเปลี่ยนแปลงนี้ส่งผลต่อมิติที่สำคัญได้ งบประมาณความร้อนมีความละเอียดสูงและไม่สามารถผิดพลาดได้

สิ่งที่สำคัญภายในระบบ
เราใช้โคมไฟ RTP ที่ให้ความร้อนด้วยฮาโลเจนช่วงคลื่นสั้นผ่านควอตซ์ความบริสุทธิ์สูง ทำให้พลังงานถึงเร็วและมีทิศทาง ระบบรักษาความสม่ำเสมอของอุณหภูมิระดับเวเฟอร์ไว้ภายใน ±0.1°C ตลอดช่วงกระบวนการ ตั้งแต่การอบโฟโตริสต์ซอฟต์เบคถึงฮาร์ดเบค ความสม่ำเสมอสามารถทำซ้ำได้ในแต่ละรอบยิง และควบคุมแบบปิดวงจรทำให้จุดเซตพอยต์คงที่แม้ภายใต้โหลดการทำงาน
เครื่องนี้ออกแบบสำหรับห้องสะอาดระดับ Class 1–100 โดยไม่มีการสร้างอนุภาคและมีการปล่อยแก๊สน้อย อุปกรณ์ทำงานต่อเนื่อง 24/7 และเราทดสอบมากกว่า 5,000 ชั่วโมงโดยมีการลดลงของผลผลิตน้อยกว่า 5%

เหตุผลที่เรื่องนี้มีผลในพื้นที่ของคุณ
ในกระบวนการลิโธกราฟี อุณหภูมิอบที่เสถียรทำให้มิติที่สำคัญ (CDs) คงที่และควบคุมความหยาบของขอบเส้นได้อย่างแม่นยำ ความสม่ำเสมอที่เคร่งครัดช่วยลดการคัดแยกขอบที่บกพร่องและเพิ่มผลผลิตโดยรวมที่สะอาดขึ้น อัตราการเพิ่มอุณหภูมิที่เร็วช่วยลดเวลาวงจรโดยไม่เพิ่มความเครียดจากการอบในโครงสร้าง และประสิทธิภาพทำให้ต้นทุนการดำเนินงานลดลง
ผลลัพธ์ที่ได้คือการลดความผิดพลาด การลดงานแก้ไข และผลผลิตที่สามารถไว้วางใจได้ สำหรับงานแพ็กเกจจิ้ง ความเสถียรของอุณหภูมิเดียวกันนี้ยังให้การบ่มที่เชื่อถือได้และความแข็งแรงของการยึดเกาะที่มั่นคง ทำให้สายการผลิตเคลื่อนไหวได้ต่อเนื่อง

สิ่งที่คุณควรตั้งค่าให้ถูกต้อง
โคมไฟมีความเข้มสูง ดังนั้นส่วนต่อประสานของห้องอบจึงต้องสอดคล้องกับโคมไฟในแง่การถ่ายเทความร้อน เราจัดเตรียมแบบแปลนส่วนต่อประสานให้ และแนะนำให้ใช้สายจ่ายไฟแยกเฉพาะโดยมีเสถียรภาพแรงดันไฟฟ้าภายใน ±1% ควรวางแผนเวลาการอุ่นเครื่องสั้น ๆ เพื่อให้ถึงสถานะคงที่ในแต่ละรอบสูตรการทำงาน ตั้งค่าอุปกรณ์อย่างถูกต้องเพื่อให้ได้ประสิทธิภาพที่เสถียรพร้อมเวลาหยุดทำงานโดยไม่คาดคิดน้อยที่สุด

เครื่องทำความร้อนสำหรับการประมวลผลเวเฟอร์แสง

Wed, 03 Jun 2026 10:20:06 +0800

Out on the fab floor, a 300mm wafer sits, waiting for that soft bake to lock in the photoresist profile. One hot spot, one cold zone, and your linewidth control is gone. The line stops. We built this optical wafer processing heater to keep that from happening in the first place.
What actually matters, technically
อุปกรณ์นี้อาศัยตัวเปล่งแสงควอตซ์อินฟราเรดคลื่นสั้น (SWIR) ที่ส่งพลังงานตรงเข้าสู่โฟโตเรซิสต์และวัสดุรองรับอย่างรวดเร็วและตรงไปตรงมาโดยไม่มีความซับซ้อน คุณจะได้ความสม่ำเสมอของอุณหภูมิในระดับเวเฟอร์ที่ควบคุมได้ภายใน ±0.1°C ทั่วพื้นที่ทำงาน จึงทำให้ขั้นตอนการอบที่สำคัญยังคงอยู่ในงบประมาณความร้อนที่กำหนด อุปกรณ์นี้สามารถใช้ในห้องสะอาดตั้งแต่ Class 1 ถึง Class 100 และไม่ก่อให้เกิดอนุภาคขณะทำงาน ความสามารถในการทำซ้ำของอุณหภูมิอยู่ที่ ±0.2°C ระหว่างชุดงาน และเครื่องทำความร้อนสามารถทำงานได้ตลอด 24/7 โดยไม่มีเวลาหยุดทำงานโดยไม่คาดคิด
Why it fits the work we do
เครื่องทำความร้อนนี้ตอบโจทย์สี่จุดหลักด้านความร้อนที่เราต้องใช้งาน: การทำให้แห้งเวเฟอร์, การอบโฟโตเรซิสต์แบบ soft bake และ hard bake, การบรรจุภัณฑ์แบบ underfill และการบ่มการเคลือบ encapsulate, รวมถึงการทำให้แห้งหลังจากการทำความสะอาด
ในกระบวนการลิโธกราฟี ความสม่ำเสมอสูงนี้ช่วยให้ขนาดเส้นและโปรไฟล์อยู่ในสเปค ช่วยลดของเสียและงานแก้ไขซ้ำ ในงานบรรจุภัณฑ์ การเร่งความร้อนอย่างรวดเร็วช่วยลดเวลาบ่มโดยไม่เกิดการเกินเป้า ส่งผลให้ประสิทธิภาพการผลิตดีขึ้น และเนื่องจาก SWIR ให้ความร้อนโดยตรงแทนการทำความร้อนในห้อง ความต้องการพลังงานจึงลดลง
Here are the details you need
การติดตั้งขึ้นอยู่กับการจับคู่ขนาดทางกลของเครื่องมือและระบบวงจรน้ำหล่อเย็น เราจัดเตรียมภาพวาดอินเทอร์เฟซและรายการขั้วต่อเพื่อให้การรวมระบบเป็นไปอย่างง่ายดาย
อายุการใช้งานของตัวเปล่งแสงถูกกำหนดไว้ที่ 10,000 ชั่วโมง หลังจากนั้นประสิทธิภาพการปล่อยแสงอาจเริ่มเปลี่ยนแปลงและส่งผลต่อความสม่ำเสมอ เว้นแต่จะมีแผนการเปลี่ยนชิ้นส่วน จึงควรวางแผนช่วงเวลาบำรุงรักษาล่วงหน้า อย่ารอให้ปัญหาเกิดขึ้นบนไลน์ผลิตจริง

การประมวลผล on Reliable IR Heating Elements

หลอดไฟสำหรับการประมวลผลความร้อนอย่างรวดเร็ว (RTP)

เครื่องทำความร้อนสำหรับการประมวลผลเวเฟอร์แสง