RTP lamp voor snelle thermische verwerking

Mon, 08 Jun 2026 05:32:29 +0800

Op de productievloer weet u hoe het gaat: een afwijking van een half graadje in de soft bake verschuift het fotoresistprofiel, en die verschuiving beïnvloedt uw kritische afmetingen. Het thermische budget is strikt, er is geen ruimte voor fouten.
Wat er onder de motorkap van belang is
Wij gebruiken RTP-lampen met kortegolf-halogeenverwarming via hoogzuiver kwarts, waardoor de energie snel en richtinggericht is. Het systeem houdt de thermische uniformiteit op waferniveau binnen ±0,1°C over het volledige procesvenster, van de fotoresist soft bake tot de hard bake. De reproduceerbaarheid is per shot en de gesloten regelschakeling houdt het ingestelde punt stabiel onder belasting.
Het is ontworpen voor cleanroomklasse 1–100, met nul deeltjesgeneratie en lage uitgassing. Deze units draaien continu 24/7 en we hebben reeds meer dan 5.000 uur gedraaid met minder dan 5% vermogensverlies.
Waarom dit relevant is in uw werkomgeving
In lithografie zorgt een stabiele bakt temperatuur ervoor dat de CDs binnen specificatie blijven en de line-edge roughness onder controle is. Strakke uniformiteit resulteert in minder randafkeuringen en een schoner totaaloogstpercentage. Snelle op- en afbouwsnelheden verkorten de cyclustijd zonder bakstress in de stack te introduceren, en de efficiëntie verlaagt de bedrijfskosten.
Dit leidt tot minder afwijkingen, minder nabehandelingen en een output waarop u kunt vertrouwen. In packaging zorgt dezelfde thermische stabiliteit voor betrouwbare uitharding en een solide bonding-integriteit, waardoor de productielijn soepel blijft lopen.
Waar u op moet letten om het goed te krijgen
De lamp heeft een hoge intensiteit, dus uw kamerinterface moet thermisch meewerken. Wij leveren interface tekeningen en adviseren een aparte voeding met een spanningsstabiliteit binnen ±1%. Houd rekening met een korte opwarmtijd om de stationaire toestand te bereiken—plan uw recepten rond deze opbouwfase. Correct ingesteld levert dit een stabiele prestatie met minimale ongeplande stilstand.

Optische waferverwerkingsverwarmer

Wed, 03 Jun 2026 10:20:05 +0800

Op de fabrieksvloer ligt een 300mm wafer die wacht op de soft bake om het photoresistprofiel te fixeren. Eén hotspot, één koude zone, en je lijnbreedtecontrole is weg. De lijn stopt. We hebben deze optische waferverwerkingsverwarmer gebouwd om te voorkomen dat dit in de eerste plaats gebeurt.
Wat technisch gezien echt telt
De unit maakt gebruik van kortegolf-infrarood (SWIR) kwartsstralers die energie direct in het photoresist en substraat brengen—snel, direct en zonder omwegen. U krijgt wafer-niveau uniformiteit binnen ±0,1°C over het actieve gebied, zodat die kritieke bake-stappen binnen het thermische budget blijven. Het is cleanroom-compatibel van Class 1 tot Class 100 en genereert geen deeltjes tijdens gebruik. De temperatuurherhaalbaarheid blijft binnen ±0,2°C van batch tot batch, en de verwarmer blijft 24/7 draaien zonder ongeplande stilstand.
Waarom het past bij het werk dat wij doen
Deze verwarmer voldoet aan de vier thermische kernpunten waar wij op vertrouwen: wafer droging, photoresist soft bake en hard bake, verpakking underfill en uitharden van encapsulatie, en droging na reiniging.
In lithografie zorgt die strakke uniformiteit dat CD- en profieldoelen binnen specificatie blijven, wat leidt tot minder afval en minder nabewerkingen. In verpakking verkort de snelle opwarmtijd het uithardingsvenster zonder overshoot, waardoor de doorvoer verbetert. En omdat SWIR direct verwarmt in plaats van de kamer, daalt het energieverbruik.
Hier zijn de details die u moet weten
De installatie komt neer op het afstemmen van de mechanische afmetingen van het gereedschap en de koelcircuits. Wij leveren de interface-tekeningen en connectorlijsten om integratie eenvoudig te maken.
De levensduur van de stralers is gespecificeerd op 10.000 uren. Daarna kan de outputdrift de uniformiteit beïnvloeden tenzij vervanging gepland wordt. Plan dus vooraf het onderhoudsmoment—wacht niet tot het probleem zich op de vloer voordoet.

Verwerking on Reliable IR Heating Elements

RTP lamp voor snelle thermische verwerking

Optische waferverwerkingsverwarmer