<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Mikro on Reliable IR Heating Elements</title>
		<link>http://ir-heat-element.com/ms/tags/mikro/</link>
		<description>Recent content in Mikro on Reliable IR Heating Elements</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 01:16:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element.com/ms/tags/mikro/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengeringkan wafer Micro LED</title>
				<link>http://ir-heat-element.com/ms/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 01:16:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element.com/ms/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengeringkan wafer Micro LED&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sebaik sahaja wafer Micro LED selesai dibersihkan, masa mula berjalan dengan cepat. Kelembapan yang tinggal serta kesan haba akan merosakkan kualiti wafer tersebut dengan cepat. Proses pemanggangan bahan fotoresist perlu dilakukan pada suhu antara ±0.1°C; jika tidak, kawalan ketebalan garis dan daya lekat bahan tersebut akan terjejas. Pemanas yang digunakan perlu memastikan suhu yang tepat, tanpa menambahkan zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Apa yang perlu dilakukan oleh alat ini ialah mengulangi proses penyesuaian suhu secara cepat, serta memastikan permukaan wafer tetap bersih. Kami menggunakan elemen inframerah gelombang pendek dalam bilik isolasi kuarsa untuk memanaskan wafer dengan cepat, kemudian mengekalkan suhu tersebut. Kecemerlangan suhu di seluruh permukaan wafer adalah antara ±0.1°C, dan sistem kawalan suhu memastikan suhu tetap stabil.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
