
Memastikan Suhu Wafer Tepat (Tanpa Membazir Tenaga)
Dalam bilik bersih, jika suhu wafer menurun semasa proses pengangkutan, ia akan menyebabkan masalah besar. Itulah sebabnya kita menggunakan pemanas khas. Namun, cabarannya bukanlah pada berapa banyak haba yang dapat dihasilkan, tetapi bagaimana memastikan haba tersebut sampai ke wafer, bukannya hanya memanaskan bahagian logamnya sahaja.
Mengapa kita menggunakan emas
Kebanyakan orang menggunakan reflektor aluminium, tetapi bahan ini menyerap terlalu banyak tenaga inframerah. Kita beralih kepada lapisan emas yang berkualiti tinggi, kerana ia mampu memantulkan lebih daripada 98% tenaga tersebut. Ia ibarat cermin untuk haba. Alih-alih tenaga tersebar ke merata-rata, lapisan emas ini akan mengarahkan tenaga tersebut ke satu arah tertentu. Dengan cara ini, setiap watt tenaga digunakan dengan efektif, bukan untuk memanaskan seluruh bilik.
Kelajuan dan masalah “titik panas”
Kita menggunakan lampu gelombang pendek yang berkuasa tinggi, agar haba dapat sampai ke sasaran dengan cepat. Ini membolehkan suhu wafer naik dengan cepat, yang merupakan apa yang kita inginkan. Namun, ada masalahnya. Jika lapisan emas tidak rata, akan timbul titik-titik panas pada permukaan wafer. Itulah sebabnya kita sangat teliti dalam proses pelapisan emas tersebut. Kita perlu memastikan permukaan wafer rata dan seragam dari segi suhu.
Keseimbangan: Perlu berhati-hati
Emas memang hebat untuk fokuskan haba, tetapi ia agak sensitif. Anda tidak boleh menggunakan bahan pembersih yang kasar untuk membersihkan permukaan emas tersebut. Sebarang kerosakan atau penumpukan bahan kimia boleh merosakkan kemampuan pantulan cahaya oleh emas. Apabila itu berlaku, lampu perlu bekerja lebih keras untuk mengekalkan suhu yang diinginkan, dan filamen lampu akan cepat rosak.
Satu lagi tips: periksa pengawal PID anda. Memandangkan emas membuat sistem berfungsi lebih cepat berbanding pemanas biasa, suhu wafer akan naik dengan cepat. Anda perlu menyesuaikan parameter pengawalan tersebut, supaya wafer tidak terlalu panas.