<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Reliable IR Heating Elements</title>
		<link>http://ir-heat-element.com/id/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Reliable IR Heating Elements</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:30:39 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element.com/id/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengering wafer berbasis sinar inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-element.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:30:39 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Pengering wafer berbasis sinar inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses produksi, kualitas hasilnya akan menurun ketika kontrol suhu tidak berjalan dengan baik. Proses pembersihan yang tidak sempurna akan meninggalkan tetesan air kecil di permukaan wafer, dan tetesan-tetesan ini justru menjadi penyebab munculnya cacat pada wafer tersebut. Alat pengering fotoresist mungkin menunjukkan suhu target pada layarnya, tetapi perbedaan suhu antara berbagai sampel akan mempengaruhi ketebalan lapisan fotoresist dan kualitasnya. Solusinya bukanlah dengan memberikan lebih banyak panas, melainkan dengan menggunakan panas yang dikendalikan secara tepat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
