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		<title>Wafle on Reliable IR Heating Elements</title>
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				<title>Sécheur de wafers en infrarouge proche (NIR)</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Sécheur de wafers en infrarouge proche (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Lorsque le contrôle thermique est perturbé, la qualité du produit en souffre. Les lavages trop intensifs laissent derrière eux de petites gouttelettes ; ces dernières constituent en fait une source de défauts potentiels. Les machines de séchage au photorésiste peuvent afficher la température cible sur l’écran, mais dans l’ensemble du lot, cette différence se manifeste par des variations dans l’épaisseur des couches de résine et par l’apparition de dépôts indésirables. La solution n’est pas &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;simplement&lt;/a&gt; d’augmenter la température – il s’agit plutôt d’utiliser une chaleur contrôlée.&lt;/p&gt;</description>
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