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		<title>Micro on Reliable IR Heating Elements</title>
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				<title>Chauffage de séchage de wafer Micro LED</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Chauffage de séchage de wafer Micro LED&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dès que la puce Micro LED est sortie du &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;processus&lt;/a&gt; de nettoyage, le temps presse. L’humidité résiduelle et les effets thermiques nuisent rapidement aux performances de la puce. Les étapes de séchage du photo-résistant doivent avoir lieu dans une plage de température de ±0,1 °C ; sinon, on constate des problèmes de contrôle de l’épaisseur des lignes et de leur adhérence. Le chauffage utilisé doit donc atteindre cette précision sans &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;produire&lt;/a&gt; de particules, tout en maintenant un rythme constant de séchage.&lt;/p&gt;</description>
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