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		<title>Cuire Au Four on Reliable IR Heating Elements</title>
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				<title>Lampe de cuisson en atmosphère contrôlée</title>
				<link>http://ir-heat-element.com/fr/posts/controlled-atmosphere-bake-lamp/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampe de cuisson en atmosphère contrôlée&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans le processus de lithographie, l’étape de cuisson n’est pas simplement une pause dans le processus : c’est plutôt une étape cruciale qui constitue une frontière bien définie au sein du processus même. Si la température de cuisson varie, cela se reflète immédiatement sur la précision de l’épaisseur des couches photorésistives. Si la cuisson n’est pas uniforme, des impuretés apparaissent inévitablement. Lorsque les contraintes thermiques sont importantes, la lampe de cuisson doit maintenir une stabilité extrême, jour après jour, sans introduire de particules ou de variations indésirables.&lt;/p&gt;</description>
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