در این فرآیند، هنگامی که کنترل دما مختل شود، بازدهی کاهش مییابد. شستشوی به درستی انجام نشده، باعث ایجاد قطرات ریزی میشود؛ این قطرات در واقع محرک ایجاد نقصها هستند. دستگاههای استفاده شده برای پخت فوتورزیست، دمای مورد نیاز را نشان میدهند، اما در کل مجموعه، تفاوت دما منجر به اختلافاتی در عرض خطوط و وجود ذرات ناخواسته میشود. راهحل، استفاده از حرارت با کنترل دقیق است.
چه چیزهایی اهمیت دارند؟ ما دستگاه خشککن ویفرهای نیر را با استفاده از منابع تابش نزدیک به مادون قرمز ساختیم؛ این منابع برای جذب انرژی توسط سیلیکون مناسب هستند. انرژی در این صورت میتواند به داخل ویفر نفوذ کند، بدون اینکه سطح آن آسیب ببیند. پاسخ دستگاه در کمتر از یک ثانیه اتفاق میافتد، و یکنواختی دما در سراسر ویفر حدود ±۰.۱ درجه سانتیگراد است. این دستگاه سازگار با اتاقهای تمیز درجه ۱–۱۰۰ است؛ همچنین از موادی با انتشار گاز کم استفاده شده، و مسیر جریان هوا به گونهای است که ایجاد ذرات ناخواسته منتفی شود. قابلیت تکرارپذیری این دستگاه با استفاده از سنسورهای تنظیمشده و سیستم کنترل بسته، تضمین میشود؛ بنابراین هر مرحله از فرآیند خشککردن، در یک دمای یکنواخت انجام میشود.
چرا این دستگاه در فرآیندهای واقعی مؤثر است؟ در فرآیند لیتوگرافی، این دستگاه دمای مورد نیاز برای پخت فوتورزیست را فراهم میکند؛ این کار باعث کاهش TMU و حفظ یکنواختی CD میشود. در فرآیندهای تمیزکردن و خشککردن، این دستگاه آخرین ذرات رطوبت را از بین میبرد، بدون اینکه ردی باقی بماند؛ این امر منجر به کاهش کارهای تکراری و ضایعات میشود. در فرآیند بستهبندی نیز، این دستگاه باعث تسریع فرآیند تختهشدن مواد میشود. مصرف انرژی نیز کاهش مییابد، زیرا حرارت به صورت دقیق تأمین میشود، نه اینکه در یک سطح گرم نگه داشته شود. قابلیت اطمینان این دستگاه در شرایط واقعی ثابت شده است؛ این دستگاه میتواند ۲۴/۷ کار کند، بدون هیچ توقف غیرمنتظرهای، و زمان خدمت آن نیز به هزاران ساعت میرسد.
جزئیات عملیاتی: این دستگاه میتواند در سیستمهای موجود یا به صورت مستقل استفاده شود؛ اما باید مسیر نوری آن تمیز و هماهنگ باشد. باید فاصله کافی در اطراف پنجره منبع تابش وجود داشته باشد، و مطمئن شوید که فرمولاتوری مورد استفاده با طیف تابش منبع سازگار باشد؛ زیرا برخی پلیمرها در ناحیه نیر به شکل متفاوتی جذب انرژی میکنند. هنگام تغییر نوع فوتورزیست، نیاز به تنظیمات جزئی وجود دارد؛ بنابراین باید مقادیر جدید را ثبت کنید. پس از هماهنگسازی، فرآیند تحت کنترل باقی میماند.