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		<title>Atmósfera on Reliable IR Heating Elements</title>
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				<title>Lámpara de cocción en atmósfera controlada</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lámpara de cocción en atmósfera controlada&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En el proceso de litografía, la etapa de horneado no es simplemente una pausa en el proceso; es un punto de ruptura importante en él. Si la temperatura de horneado varía, se notará en el control del ancho de las líneas trazadas. Si el horneado no es uniforme, aparecen impurezas y defectos en la superficie del wafer. Cuando el presupuesto térmico es limitado, la lámpara de horneado debe mantener una estabilidad extrema en toda la superficie del wafer, día tras día, sin generar partículas o variaciones.&lt;/p&gt;</description>
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