Ausrüstung für die Wafer Fertigungsanlagen

Thu, 18 Jun 2026 04:51:31 +0800

In der Fertigungshalle wartet die Produktionslinie auf nichts. Schon eine kleine Temperaturschwankung während des Weichbrennvorgangs oder des Härtebrennvorgangs kann dazu führen, dass die kritischen Abmessungen der Wafer nicht mehr eingehalten werden. Die Wafer müssen dann verworfen werden – die Lithografieprozesse kommen ins Stocken. Man benötigt daher eine Heizplattform, die ständig in Betrieb ist und nicht den größten Teil des Tages untätig bleibt.

Was technisch wichtig ist:
Wir halten die Homogenität der Temperatur auf dem Wafer-Level bei ±0,1°C – damit bleibt das thermische Budget gewahrt und die Kontrolle über die Abmessungen der Wafer wird erleichtert. Kurzwelliges und mittelwelliges Infrarotlicht, in Kombination mit Quarz- und Kohlenstofffasermodulen, sorgt für eine schnelle Erhitzung der Wafer mit minimalem Zeitverzug. Dadurch entstehen stabile Temperaturprofile zwischen 90°C und 150°C – von Zyklus zu Zyklus.

Linie on Reliable IR Heating Elements

Ausrüstung für die Wafer Fertigungsanlagen