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		<title>Emitter on Reliable IR Heating Elements</title>
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		<description>Recent content in Emitter on Reliable IR Heating Elements</description>
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				<title>Keramische Endkappe für IR Emitter</title>
				<link>http://ir-heat-element.com/de/posts/ceramic-end-cap-for-ir-emitter/</link>
				<pubDate>Thu, 09 Jul 2026 02:14:23 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Keramische Endkappe für IR Emitter&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Keramische Endkappen für IR-Emitter: Reduzierung der Bearbeitungszeiten im tiefen Halbleiterverarbeitungsprozess&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir haben diesen keramischen IR-Emitter aus einem einzigen Grund entwickelt: um die Verwendung von Heißluft in der tiefen Halbleiterverarbeitung zu ersetzen und die Wartezeiten zu verkürzen.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Der Unterschied:&lt;/strong&gt; Bei der Verwendung von Heißluft muss zunächst die Luft erhitzt werden – anschließend muss man warten, bis die Wärme das Substrat erreicht hat. Bei Infrarotstrahlung hingegen trifft die Energie direkt auf das Zielobjekt. Dadurch werden die Bearbeitungszeiten verkürzt. Punkt.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Linearer Infrarot Heizstrahler</title>
				<link>http://ir-heat-element.com/de/posts/linear-infrared-heating-emitter/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:38:39 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Linearer Infrarot Heizstrahler&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungshalle kann eine Temperaturverschiebung von 0,1 °C beim Backvorgang dazu führen, dass kritische Abmessungen um Nanometer verschoben werden. Das bedeutet, dass die Wafer als unbrauchbar gelten müssen, der Puffer des Photoresists schrumpft – und der Druck, einen hohen Ertrag zu erzielen, bleibt bestehen.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was technisch wichtig ist:&lt;/strong&gt;&#xA;Wir haben den linearen Infrarotheizstrahler anhand der thermischen Anforderungen der Halbleiter entwickelt. Er liefert schnelle, direkte NIR-Energie an die Wafer und sorgt dafür, dass die Temperatur im aktiven Bereich innerhalb von ±0,1 °C konstant bleibt. Dadurch können die gleichen Backprozesse immer wieder durchgeführt werden.&lt;/p&gt;</description>
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