http://ir-heat-element.com/cs/tags/vybaven%C3%AD/ Recent content in Vybavení on Reliable IR Heating Elements Hugo cs Tue, 28 Jul 2026 05:46:13 +0800 http://ir-heat-element.com/cs/posts/why-infrared-curing-meets-lead-free-and-environmental-standards-in-semiconductor-fabs/ Tue, 28 Jul 2026 05:46:13 +0800 http://ir-heat-element.com/cs/posts/why-infrared-curing-meets-lead-free-and-environmental-standards-in-semiconductor-fabs/ <p><img src="http://ir-heat-element.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Vylepšení zařízení v čistých prostorách ve výrobě"></p> <h1 id="proč-je-infračervené-vysoušení-tou-správnou-cestou-k-bezolovnatému-vysoušení">Proč je infračervené <a href="https://o-yate.com">vysou</a>šení tou správnou cestou k bezolovnatému vysoušení</h1> <p>Při obnově vybavení v čistých prostorách se „bezolovnatý“ nebo „ekologický“ přístup obvykle jeví jako něco, co je potřeba jen zaškrtnout kvůli splnění požadavků. Ve skutečnosti však jde o něco víc – jde o odstranění těch škodlivých látek a o zastavení spotřeby velkého množství energie během procesu vysoušení.</p> <p>Právě zde přichází na řadu infračervené vysoušení. Místo použití obrovských konvekčních troub, které prostě <a href="https://goldisgood.com">foukaj</a>í horký vzduch a chemikálie po celé místnosti, používáme světlo.</p> http://ir-heat-element.com/cs/posts/wafer-fabrication-line-equipment/ Thu, 18 Jun 2026 04:51:31 +0800 http://ir-heat-element.com/cs/posts/wafer-fabrication-line-equipment/ <p><img src="http://ir-heat-element.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Zařízení pro výrobní linku na wafery"></p> <p>V provozu výroby nečeká linka na nic. Jedna teplotní výkyv během měkkého nebo tvrdého zahřívání způsobí, že kritické rozměry začnou se měnit. Wafery pak musí být znehodnoceny. Lithografie se zastaví. Potřebujete tedy zahřívací platformu, která funguje nepřetržitě, a ne takovou, která většinu dne zůstává nečinná.</p> <p><strong>Co je z technického hlediska důležité</strong><br> Snažíme se udržet rovnoměrnost teploty na úrovni ±0,1 °C po celé ploše substrátu. Díky tomu zachováte správnou teplotu a můžete kontrolovat rozměry waferů. Krátkovlnné a střednovlnné infračervené záření spolu s moduly z kvartzu a uhlíkových vláken umožňují rychlé dosažení požadované teploty s minimálními zpožděními. To zajistí stabilní teplotní profil od 90 °C do 150 °C v každém cyklu.</p>