Під час процесу сушіння ефективність знижується через відхилення температури контролю. Чисте промивання залишає після себе мікрокраплі, а ці краплі стають причиною виникнення дефектів. Пристрої для обробки фоторезисту можуть показувати потрібну температуру на дисплеї, але в цілому по партії продукції це призводить до неоднорідності та появи дефектів. Рішенням не є просто збільшення кількості тепла – потрібен контрольований подача тепла.
Що є важливим у процесі сушіння
Ми створили сушарку для пластин у НІР-діапазоні, яка використовує випромінювачі з короткою довжиною хвилі, налаштовані на поглинання світла силіцієм. Таким чином енергія проникає в матеріал без його підігрівання. Час реакції становить менше секунди, а однорідність температури по всій поверхні пластини становить ±0,1°C. Камера сумісна з приміщеннями класу 1–100, матеріали, використовувані в камері, мають низький рівень викидів газів, а ламінарний потік повітря запобігає утворенню частинок. Повторюваність процесу забезпечується завдяки каліброваним датчикам та системі замкнутого контролю, тож кожен крок процесу відбувається при однакових умовах.
Чому цей пристрій підходить для реальних процесів
У процесі літографії сушарка у НІР-діапазоні забезпечує необхідні умови для сушіння фоторезисту, що допомагає зменшити кількість дефектів та зберегти однорідність параметрів. Під час чищення та сушіння пристрій ефективно усуває останні сліди вологи, не залишаючи слідів, що значно скорочує кількість переробок та відходів. У процесі упаковки пристрій забезпечує швидке та стабільне висихання, що скорочує час циклу. Використання енергії зменшується, оскільки тепло подається за потребою, а не накопичується в нагрівальних елементах. Надійність пристрою підтверджена на практиці: пристрої працюють 24/7 без жодних проблем, а термін служби сягає тисяч годин.
Практичні деталі
Сушарку у НІР-діапазоні можна використовувати разом із існуючими пристроями, але необхідно підтримувати чистоту оптичного шляху. Необхідно також забезпечити достатню відстань навколо вікна випромінювача, а також переконатися, що спектр випромінювання відповідає характеристикам фоторезисту – деякі полімери поглинають світло по-різному у НІР-діапазоні. Під час зміни типів фоторезисту може знадобитися корекція параметрів пристрою; необхідно також задокументувати нові значення параметрів. Після налаштування пристрій залишається під контролем.