Out on the fab floor, a 300mm wafer sits, waiting for that soft bake to lock in the photoresist profile. One hot spot, one cold zone, and your linewidth control is gone. The line stops. We built this optical wafer processing heater to keep that from happening in the first place.
What actually matters, technically
อุปกรณ์นี้อาศัยตัวเปล่งแสงควอตซ์อินฟราเรดคลื่นสั้น (SWIR) ที่ส่งพลังงานตรงเข้าสู่โฟโตเรซิสต์และวัสดุรองรับอย่างรวดเร็วและตรงไปตรงมาโดยไม่มีความซับซ้อน คุณจะได้ความสม่ำเสมอของอุณหภูมิในระดับเวเฟอร์ที่ควบคุมได้ภายใน ±0.1°C ทั่วพื้นที่ทำงาน จึงทำให้ขั้นตอนการอบที่สำคัญยังคงอยู่ในงบประมาณความร้อนที่กำหนด อุปกรณ์นี้สามารถใช้ในห้องสะอาดตั้งแต่ Class 1 ถึง Class 100 และไม่ก่อให้เกิดอนุภาคขณะทำงาน ความสามารถในการทำซ้ำของอุณหภูมิอยู่ที่ ±0.2°C ระหว่างชุดงาน และเครื่องทำความร้อนสามารถทำงานได้ตลอด 24/7 โดยไม่มีเวลาหยุดทำงานโดยไม่คาดคิด
Why it fits the work we do
เครื่องทำความร้อนนี้ตอบโจทย์สี่จุดหลักด้านความร้อนที่เราต้องใช้งาน: การทำให้แห้งเวเฟอร์, การอบโฟโตเรซิสต์แบบ soft bake และ hard bake, การบรรจุภัณฑ์แบบ underfill และการบ่มการเคลือบ encapsulate, รวมถึงการทำให้แห้งหลังจากการทำความสะอาด
ในกระบวนการลิโธกราฟี ความสม่ำเสมอสูงนี้ช่วยให้ขนาดเส้นและโปรไฟล์อยู่ในสเปค ช่วยลดของเสียและงานแก้ไขซ้ำ ในงานบรรจุภัณฑ์ การเร่งความร้อนอย่างรวดเร็วช่วยลดเวลาบ่มโดยไม่เกิดการเกินเป้า ส่งผลให้ประสิทธิภาพการผลิตดีขึ้น และเนื่องจาก SWIR ให้ความร้อนโดยตรงแทนการทำความร้อนในห้อง ความต้องการพลังงานจึงลดลง
Here are the details you need
การติดตั้งขึ้นอยู่กับการจับคู่ขนาดทางกลของเครื่องมือและระบบวงจรน้ำหล่อเย็น เราจัดเตรียมภาพวาดอินเทอร์เฟซและรายการขั้วต่อเพื่อให้การรวมระบบเป็นไปอย่างง่ายดาย
อายุการใช้งานของตัวเปล่งแสงถูกกำหนดไว้ที่ 10,000 ชั่วโมง หลังจากนั้นประสิทธิภาพการปล่อยแสงอาจเริ่มเปลี่ยนแปลงและส่งผลต่อความสม่ำเสมอ เว้นแต่จะมีแผนการเปลี่ยนชิ้นส่วน จึงควรวางแผนช่วงเวลาบำรุงรักษาล่วงหน้า อย่ารอให้ปัญหาเกิดขึ้นบนไลน์ผลิตจริง