
Op de fabrieksvloer is het bakken van photoresist niet optioneel—het is de specificatie. Een afwijking van 1°C tijdens de soft bake of hard bake, en je CD-controle gaat achteruit. Eén deeltje dat uitwijkt, en je kunt de hele partij afschrijven. We hebben onze chip-on-wafer infraroodlampen ontworpen om die variabiliteit te elimineren en het thermisch gedrag te evenaren dat geavanceerde halfgeleider gereedschappen vereisen.
Wat belangrijk is onder de motorkap
We gebruiken near-infrared (NIR) emissie om energie direct in de wafer en photoresist te dumpen. Dat zorgt voor snelle, lokale verwarming met een lage thermische traagheid. Over de proceszone krijg je wafer-niveau uniformiteit binnen ±0,1°C, en herhaalbaarheid die je binnen strakke thermische budgetten houdt.
Het systeem is gebouwd voor cleanroom-omstandigheden—geschikt voor Class 1–100—en is zo opgezet dat steady-state werking geen deeltjesuitwijkingen triggert. In gekwalificeerde installaties draait het 24/7 zonder ongeplande stilstand, en het ondersteunt de soort precieze thermische controle die lithografie en photoresist baksequenties vereisen.
Waarom dit werkt in productie
In een echte fabrieksomgeving moet warmte snel aankomen, constant blijven en niets achterlaten. NIR-verwarming verkort de bakopwarmtijd zonder overshoot, zodat je de cyclusduur verkort en de doorvoer verbetert. Met strakke uniformiteit verminder je het risico op edge-beadproblemen en dikte-onuniformiteit—de opbrengst op gepatteerde wafers verbetert.
Energieverbruik is efficiënt omdat verwarming op aanvraag is en de standby-verliezen klein zijn, waardoor de operationele kosten dalen. De lampen bieden ook een gevalideerde, prestatie-equivalente optie ten opzichte van internationale apparatuurstandaarden, zodat je ze kunt vervangen zonder de hele lijn opnieuw te kwalificeren.
Wat je goed moet krijgen
Installatie komt neer op het afstemmen van de mechanische en elektrische interfaces van het gereedschap. Bevestig spanning, connector type en montage-afstanden voordat je vervangt. De lamp presteert het beste wanneer het optische pad schoon blijft en de doelafstand niet verandert—elke afwijking verschuift de intensiteitsverdeling.
We voegen applicatienotes toe voor uitlijning en cleanroom-handling zodat je de deeltjesaantallen stabiel kunt houden.