Dalam proses litografi, langkah pembakaran bukan sekadar masa rehat semata-mata; ia merupakan titik penting dalam keseluruhan proses tersebut. Jika suhu pembakaran tidak konsisten, ia akan berpengaruh terhadap ketepatan lebar garisan yang dihasilkan. Jika proses pembakaran tidak dilakukan dengan sempurna, bahan-bahan tertentu akan muncul pada permukaan wafer. Apabila penggunaan tenaga haba terhad, lampu pembakaran perlu mengekalkan kestabilan suhu pada tahap yang sangat tinggi, dari hari ke hari, tanpa menimbulkan sebarang variasi atau zarah-zarah tambahan.
Ketepatan Inframerah: Kawalan Medan Termal pada Skala Sub-Milimeter
Kami menggunakan lampu pemanasan berbasis gelombang Inframerah pendek (NIR) kerana ia memberikan respons yang cepat dan memungkinkan kawalan suhu yang tepat. Ini membolehkan pengawalan medan termal pada skala sub-milimeter, sehingga memastikan keseragaman suhu di seluruh kawasan pembakaran. Dengan cara ini, bahan fotoresist akan mendapat tenaga yang konsisten, dari satu sesi ke sesi yang lain, serta dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain.
Sistem ini direka untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Bahan-bahan dan komponen yang digunakan dipilih sedemikian rupa agar penghasilan zarah-zarah menjadi serendah mungkin. Inilah yang diperlukan oleh proses pembakaran semikonduktor.
Mengapa Sistem Ini Sesuai untuk Proses Pembakaran Semikonduktor
Apa yang benar-benar diperlukan di sini bukanlah lebih banyak haba, tetapi kebolehpengulangan proses. Lampu ini memastikan profil pembakaran bahan fotoresist berada dalam lingkungan toleransi yang ketat, sehingga mengurangkan keperluan untuk melakukan kerja ulang dan mengurangkan variasi akibat perubahan suhu. Proses pembakaran berlaku dengan cepat, sekali gus memendekkan masa yang diperlukan untuk menyelesaikan proses tersebut. Selain itu, antaramuka udara yang dikawal dengan baik dapat mengelakkan oksidasi dan perubahan kelembapan yang boleh mempengaruhi prestasi bahan fotoresist. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu hanya memanaskan kawasan yang diperlukan sahaja, dan reka bentuk lampu yang tahan lama memanjangkan jangka masa antara setiap kali ia perlu digunakan. Hasilnya, prestasi dimensi kritis produk menjadi lebih stabil, dan kadar hasil yang dihasilkan juga dapat diramalkan.
Nota Pemasangan dan Pengoperasian
Lampu-lampu ini mudah dipasang, namun anda memerlukan peralatan pemanasan yang sesuai serta sistem pengudaraan yang efektif untuk memastikan kawalan suhu yang tepat. Anda perlu meluangkan sedikit masa untuk menyesuaikan tetapan lampu agar sesuai dengan jenis bahan fotoresist dan substrat yang digunakan. Lampu ini akan berfungsi dengan optimum apabila tekanan di dalam bilik dan aliran gas berada dalam julat yang ditetapkan. Sila beritahu kami saiz wafer, julat suhu pembakaran, dan kelas bilik bersih yang digunakan, dan kami akan menyesuaikan konfigurasi lampu tersebut.