ファブ内の加熱システムを最適化するには
ウェーハ処理やCVDプロセスを行っている場合、加熱ランプがそのプロセスの核心であることはご存知でしょう。しかし、現代のファブでは、「単純な」加熱素子では不十分です。実際にデジタル制御装置と連携して動作する加熱源が必要です。リアルタイムで温度分布を把握し、推測に頼ることなく対応できる必要があります。
UHPランプの特徴
こうしたランプを製造する際の目標は、必要な場所に正確に熱を供給し、基板に余分な熱が残らないようにすることです。そのため、高品質な合成石英を使用します。これにより、冷却時のガス放出が防げます。クリーンルームでは、これは当然の要件です。
300mmウェーハを扱う場合、高いパワー密度が求められます。そのため、短波赤外線を使用します。これにより、材料を素早く加熱でき、ラムアップ時間を短縮できます。
推測しないで、リアルタイムで監視しよう
インダストリー4.0というのは聞こえは良いですが、私たちにとっては、データを活用して作業を効率化することを意味します。これらのヒーターをPLCで制御されるシステムに接続することで、電圧や消費電力を常に監視できます。これは非常に役立ちます。定期的にランプを交換する代わりに、実際にランプが劣化し始めた時点で交換できます。予測型の交換です。
さらに、ウェーハ全体の温度分布もリアルタイムで把握できます。これにより、スクラップが減り、問題も少なくなります。
注意すべきトレードオフ
正直に言って、高出力のUHPランプは大量の熱を発生させますが、同時に多量の電力も必要です。配線を確認し、コネクタがピーク電流に耐えられるかを確認してください。そうしないと、電圧降下が起きて結果に影響が出ます。また、冷却システムも忘れてはいけません。システムが周囲の熱を処理できなければ、プロセスの温度が不安定になります。
これらのランプは、既存の装置にそのまま取り替えられるように設計されています。波長が合致し、石英の純度も適切であれば大丈夫です。これら2つの条件を満たせば、デジタル制御が残りの部分を処理してくれます。