במהלך התהליך, היעילות יורדת כאשר יש סטיות בשליטה בטמפרטורה. שטיפות נקיות משאירות אחריהן טיפות זעירות, וטיפות אלו מהוות בעצם “הזמנה” להיווצרות פגמים. מכשירי הייבוש עשויים להראות את הטמפרטורה הרצויה על המסך, אך בפועל, ההבדלים בטמפרטורה ניכרים ברוחב הקווים ובשאריות החומר. הפתרון אינו פשוט – יש לשלוט בטמפרטורה בצורה מדויקת.
מה חשוב באמת? יצרנו את מכשיר הייבוש באמצעות גופי פליטה באור קרוב לאינפרא-אדום, שמותאמים לספיגת האנרגיה על ידי הסיליקון. כך, האנרגיה חודרת אל תוך החומר מבלי לפגוע בשטחו. זמן התגובה הוא פחות משנייה, והאחידות בטמפרטורה ברחבי הוואפר היא ±0.1°C. המכשיר מתאים לחדרי ניקיון מסוג Class 1–100, עם חומרים שאינם פולטים גזים, ועם מערכת זרימה שמונעת היווצרות של חלקיקים. האמינות של המכשיר נשמרת באמצעות חיישנים מדויקים ושליטה בלולאה סגורה, כך שכל שלב בתהליך מתבצע באותו רמת טמפרטורה, שוב ושוב.
למה המכשיר טוב לשימוש בתהליכים אמיתיים? בתהליך הליתוגרפיה, מכשיר הייבוש באור קרוב לאינפרא-אדום מאפשר ייבוש יעיל של החומר, מה שמקטין את הפגמים ושומר על אחידות הגודל של החומר. בתהליכי ניקוי וייבוש, המכשיר מסיר את שאריות הלחות מבלי להשאיר סימנים, מה שמקטין את הצורך בעבודות תיקון ואת כמות החומרים הבזבזיים. בתהליך האריזה, המכשיר מאפשר ייבוש מהיר ויציב, מה שמקצר את זמן העיבוד. צריכת האנרגיה יורדת, מכיוון שהחום ניתן בהתאם לצורך, ולא נשמר במשטח חם. האמינות של המכשיר נובעת מהשימוש בחיישנים מדויקים ושליטה בלולאה סגורה – המכשיר יכול לפעול 24/7 ללא הפסקות, ומשך התחזוקה הוא אלפי שעות.
הפרטים המעשיים מכשיר הייבוש באור קרוב לאינפרא-אדום יכול להתחבר למערכות קיימות, אך חשוב לשמור על ניקיון של מסלול האור. יש לוודא שהחומרים שמשמשים לייבוש מתאימים לספקטרום האור של המכשיר – חומרים מסוימים סופגים את האור בצורה שונה באור קרוב לאינפרא-אדום. ייתכן שיהיה צורך בתיקונים קטנים כאשר משתמשים בחומרים שונים, ויש לתעד את ההגדרות החדשות. לאחר שהמכשיר מותאם כראוי, התהליך נשאר תחת שליטה.