Arrêtez de perdre du temps à attendre que vos wafers se réchauffent.
Si vous utilisez encore une circulation d’air chaud pour le traitement des wafers, c’est comme si vous luttiez contre le temps lui-même. En effet, l’air chaud met beaucoup de temps à se réchauffer. Il faut d’abord réchauffer toute la chambre et l’air qui s’y trouve avant même que le wafer ne remarque quoi que ce soit. Cela représente un temps perdu énorme, qui nuit à votre productivité.
En passant à la technologie infrarouge, tout change. Au lieu d’attendre que l’air se réchauffe, les lampes infrarouges envoient de l’énergie en lignes droites. Cette énergie atteint directement la surface du wafer. La différence est considérable : alors qu’un système à air chaud peut mettre des minutes rien que pour stabiliser la température, un système infrarouge permet d’atteindre la température souhaitée en quelques secondes à peine.
Lorsque vous travaillez à grande échelle, ces quelques secondes gagnées ne sont pas négligeables. Elles représentent des heures supplémentaires de productivité par shift. De plus, les systèmes à air chaud sont complexes à mettre en place : il faut des ventilateurs volumineux, des conduits, et des boîtes isolantes pour empêcher la chaleur de s’échapper. En revanche, les lampes infrarouges sont très compactes. On peut les placer directement près du wafer, ce qui permet de créer une zone de chauffage bien contrôlée, permettant ainsi un chauffage ou un refroidissement rapide.
Mais il y a un problème : on ne peut pas simplement remplacer le chauffage par une lampe infrarouge sans plus de réflexion. La technologie infrarouge est très exigeante : si l’arrangement des lampes n’est pas correct ou si l’épaisseur du wafer n’est pas adaptée, on risque d’avoir des points chauds inutiles. Ce n’est donc pas un système “prêt à l’emploi”. Il faudra ajuster les contrôleurs PID pour gérer cette vitesse de chauffage. Sinon, on risque de dépasser la température souhaitée et de endommager le substrat.
Néanmoins, pour la plupart des ateliers, cet échange est évident : il s’agit simplement de faire monter la température du wafer le plus rapidement possible.